[p]保护臭氧层小知识（十）[-p]

保护臭氧层小知识（十）

消耗臭氧层物质造成臭氧层消耗的化学物质，主要包括CFCs（全氯氟烃）、哈龙、甲基溴和HCFCs（含氢氯氟烃）等。CFCs（全氯氟烃）：是一种含有碳、氯和氟的化学物质，通常用作制冷剂、发泡剂和溶剂等。全氯氟烃释放到大气中会引起臭氧层的消耗。 哈龙：是包含溴、氯和碳的化学物质，用于灭火器。和全氯氟烃一样，释放到大气中的哈龙会引起臭氧层的消耗。HCFCs那晚上的戏就不用唱了。（含氢氯氟烃）：包含氢、氯、氟和碳原子。因对臭氧层的危害较小，HCFCs曾被用作CFCs的替代物质。HCFCs是消耗臭氧层物质，同时也是温室气体。甲基溴：农业生产中广泛应用于杀虫剂。甲坚持使用基溴能严重破坏臭氧层，对人体和动物也非常有害。