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【】电子在4月16日宣布已成功研发5纳米半导体工艺，并将于本月正式量产半导体业界首个利用极紫外光刻(EUV)的7纳米芯片，并投入市场。此前台积电利用Arf技术，首先研发出7纳米工艺，并获得、等厂商的大量定单。

三星半导体

三星本次5纳米半导体工艺采取EUV技术，与ArF工艺相比，EUV利用短波长，能够更加准确地画出精密半导体的电路。为此，三星电子在波兰半导体装备制造业ASML引进最尖端的EUV设备，一台装备价值约为5. 亿美元。三星电子表示：“此次开发的‘5纳米工艺’通过单元储存设计最优化，将比已有的7毫米减少25%的面积大小，同时电量使用率提高20%，性能提高10%。”

三星半导体

三星电子表示：“将为韩国国内Fabless(专业设计)商家提供各种设计的基础设施，Fabless的顾客们将能够更为简单快捷地设计产品，新产品上市的时间也可以提前”。

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